Nangita ug premium nga tantalum sputtering target disc solutions para sa imong panginahanglan sa thin film deposition? Ang among mga precision-manufactured discs naghatag ug talagsaong performance sa semiconductor ug electronics manufacturing. Uban sa kapin sa 30 ka tuig nga kasinatian sa rare metal processing, naghatag kami ug high-purity tantalum targets nga nagsiguro sa makanunayon nga kalidad sa coating ug superior film uniformity. Ang among mga produkto sa tantalum sputtering target disc nakakab-ot sa estrikto nga mga sumbanan sa industriya para sa semiconductor chip manufacturing, display technology, ug optical coating applications.
Product Introduction
Ang among tantalum target discs gidesinyo para sa propesyonal nga sputtering systems. Ang matag disc moagi sa estrikto nga quality control aron masiguro ang labing maayong performance. Gihimo namo kini nga mga produkto gamit ang abante nga powder metallurgy techniques. Kini nga proseso nagmugna og parehas nga internal nga mga istruktura nga perpekto para sa mga high-end nga aplikasyon. Ang among team naghiusa sa mga dekada nga kahanas uban sa modernong mga pamaagi sa paggama aron makahatag og kasaligan nga mga resulta matag higayon.
1. Maayong pagka-ductility, maayong pagka-machinable
2. Maayong pagkaplastar
3. Maayo kaayo nga pagsukol sa kaagnasan
4. Taas nga punto sa pagkatunaw, taas nga punto sa pagbukal
5. Gamay kaayo nga mga coefficient sa pagpalapad sa kainit
6. Maayong kapabilidad sa pagsuyop ug pagpagawas sa hydrogen
7. Maayong biocompatibility
| sukaranan | paghingalan |
|---|---|
| Mga Grado sa Materyal | Ta 1, Ta 2 |
| Kaputli | 99.95% nga minimum |
| Densidad | 16.6g/cm³ |
| Sakup sa Diametro | 75-200 mm |
| Pagkalabi nga Pagkamatugtanon | ± 0.015 mm |
| Flatness | ≤0.03 mm |
| Sulod sa Oxygen | ≤100 ppm |
| Kapasidad sa Pagkarga sa Kainit | 300 W/cm² |
| Rate sa Pagdeposito | 8-12 nm/s sa 500W |
| sertipiko | ISO 9001: 2015 |
| Panahon sa pagpadala | 7-15 ka adlaw matag usa sumala sa imong gidaghanon |
| termino sa pagbayad | 30% TT nga abante, 70% nga balanse sa wala pa ipadala |
Komposisyon sa kemikal
|
Grade |
Komposisyon sa Kemikal (≤%) |
||||||||||||
|
Ta |
Fe |
Si |
Ni |
W |
Mo |
Ti |
Nb |
O |
C |
H |
N |
||
|
Ra1 |
Bal. |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
0.01 |
0.01 |
0.002 |
0.03 |
0.015 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
|
|
Ra2 |
Bal. |
0.03 |
0.02 |
0.005 |
0.04 |
0.03 |
0.005 |
0.1 |
0.02 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
|
|
Ta2.5W |
Bal. |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
3.0 |
0.01 |
0.002 |
0.04 |
0.015 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
|
|
Ta10W |
Bal. |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
11 |
0.01 |
0.002 |
0.04 |
0.015 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
|
Mechanical Properties
|
Grado(UNS) |
Natulog |
||
|
Kusog sa Tensile min, psi (MPa) |
Kusog sa ani min, psi (MPa)(2%) |
Elongation min,% (1 ka pulgada nga sukod sa gitas-on) |
|
|
Purong Ta (RO5200,RO5400) |
30000 (207) |
20000 (138) |
20 |
|
Ta-10W (RO5255) |
70000 (482) |
60000 (414) |
15 |
|
Ta-2.5W (RO5252) |
40000 (276) |
30000 (207) |
20 |
Anaa nga mga Grado ug Materyal
Nagtanyag kami og duha ka pangunang grado sa tantalum aron matubag ang imong piho nga mga kinahanglanon:
Ta 1 Grado : Mas taas nga kaputli nga kapilian nga sulundon alang sa kritikal nga mga aplikasyon sa semiconductor
Ta 2 Grade : Solusyon nga barato para sa kinatibuk-ang aplikasyon sa sputtering
Ang ubang grado sa tantalum mahimong ipasibo
Ang among proseso sa paggama magsugod sa taas nga kalidad nga tantalum powder. Gigamit namo ang bugnaw nga isostatic pressing sa presyur nga molapas sa 200 MPa. Ang gipreskong materyal moagi sa vacuum sintering sa temperatura nga labaw sa 2400°C. Kini nga proseso makamugna og pino ug parehas nga internal nga mga istruktura nga walay mga problema sa tekstura.
Ang pag-roll ug heat treatment mosunod sa sintering. Gikontrol namo ang processing rates tali sa 30-60% para sa labing maayong kalidad sa materyal. Ang katapusang heat treatment mahitabo sa 25-45% sa melting point sa tantalum. Kining maampingong proseso nagsiguro sa makanunayong kalidad sa matag tantalum sputtering target disc.
|
|
|
|
|
|
|
|
Paggama sa Semiconductor : Kinahanglanon alang sa paghimo og nipis nga mga pelikula sa integrated circuits, capacitors, ug resistors
Teknolohiya sa Display : Gigamit sa paggama sa LCD ug OLED para sa mga electrodes ug barrier layers
Mga Optical Coating : Perpekto para sa pagpausbaw sa transmittance ug pagpakunhod sa reflection sa mga optical nga produkto
Panukiduki ug Pag-uswag : Maayo alang sa mga aplikasyon sa laboratoryo nga nanginahanglan mga materyales nga taas og kaputli
Electronic nga mga kagamitan
Mga medikal nga implant
Industriya nga asero
Pagproseso sa Kemikal
Aerospace ug Defense
Enerhiya ug Engineering sa Kalikopan
Among ipasibo ang mga dimensyon base sa mga kinahanglanon sa imong sputtering system. Ang standard nga mga diyametro gikan sa 75mm hangtod 300mm. Ang mga kapilian sa gibag-on managlahi sumala sa imong mga panginahanglanon sa aplikasyon. Ang among precision machining nagsiguro sa hugot nga mga tolerance para sa hingpit nga pagkaangay sa sistema.
Ang matag produkto moagi sa komprehensibo nga pagsulay sa dili pa ipadala. Among gipamatud-an ang lebel sa kaputli, katukma sa dimensyon, ug kalidad sa nawong. Ang among sistema sa pagdumala sa kalidad nagsiguro sa makanunayon nga performance sa tanang batch. Ang pagsulay naglakip sa mga pagsukod sa densidad, pag-analisar sa kemikal, ug biswal nga inspeksyon.
|
|
|
Gidawat namo ang mga espesyal nga espesipikasyon para sa talagsaon nga mga aplikasyon. Ang among team sa inhenyeriya motabang kanimo sa paghimo og labing maayong mga solusyon. Kung kinahanglan nimo og espesyal nga mga dimensyon, mga pagtambal sa nawong, o lebel sa kaputli, among matubag ang imong mga kinahanglanon. Kontaka kami aron hisgutan ang imong piho nga mga panginahanglan.
Ang mga produkto ipadala gamit ang protective packaging aron malikayan ang kontaminasyon ug kadaot. Naggamit kami og vacuum-sealed nga mga sudlanan para sa mga sensitibo nga gamit. Giseguro sa among logistics team ang luwas nga paghatud sa tibuok kalibutan. Malampuson na kaming nakapadala sa kapin sa 50 ka mga nasud lakip ang Estados Unidos, Germany, South Korea, ug Singapore.
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Nahimutang sa "Titanium Capital" sa China, nagdala kami og kapin sa tulo ka dekada nga kahanas sa talagsaon nga metal sa matag proyekto. Ang halapad nga kasinatian sa industriya sa among founder nagsiguro nga makadawat ka og hanas nga suporta ug dekalidad nga mga produkto. Nagtutok kami sa kompetisyon nga presyo, tukma sa oras nga paghatud, ug katagbawan sa kustomer. Ang among pasalig sa padayon nga pag-uswag nagpasabut nga makabenepisyo ka gikan sa pinakabag-o nga mga pag-uswag sa teknolohiya sa tantalum sputtering target disc.

|
|
|
|
|
|
P: Unsa ang nakapahimo sa imong tantalum target nga lahi sa mga kakompetensya?
A: Ang among proseso sa powder metallurgy nagmugna og superyor nga internal uniformity nga walay mga isyu sa texture, nga nagsiguro sa makanunayon nga sputtering performance.
Q: Makahatag ka ba og custom nga mga sukod?
A: Oo, naggama kami og mga target sumala sa imong eksaktong mga detalye gamit ang precision CNC machining.
Q: Unsa ang kasagaran nga lead time alang sa mga order?
A: Ang mga standard nga produkto kasagarang ipadala sulod sa 1-2 ka semana. Ang mga custom order mahimong magkinahanglan og dugang nga oras depende sa mga detalye.
Q: Naghatag ka ba mga sertipiko sa pagtuki?
A: Oo, ang matag kargamento naglakip sa detalyado nga mga sertipiko sa materyal nga nagpakita sa kaputli, komposisyon, ug mga resulta sa pagsulay.
Andam na ba ka nga pauswagon ang imong proseso sa thin film deposition? Kontaka ang among technical team karon aron hisgutan ang imong mga kinahanglanon sa tantalum sputtering target disc. Ania kami aron maghatag og ekspertong giya ug mga solusyon nga kompetitibo para sa imong mga aplikasyon.
Email: info@chdymetal.com
Tugoti kami nga motabang kanimo nga makab-ot ang labing maayo nga resulta sa coating gamit ang among premium nga tantalum targets. Ang imong kalampusan mao ang among prayoridad.

Pagkat-on bahin sa among labing bag-ong mga produkto ug mga diskwento pinaagi sa SMS o email